高性能光电材料废水怎么处理|高性能光电材料废水如何处理
该品牌是境内遥遥领先的LED存储芯片营造商,制作整个过程中行成一大批含高价属、充分相转移催化剂及高酸度高锰酸盐指数的焦化生产生活污水。主要是因为焦化生产生活污水化学物质复杂性且造成的释放物酸度高,传统文化治理做法不好达到标准释放,品牌急需要一种更高效、动态平衡的焦化生产生活污水治理平台。
废气的成分及源
蚀刻生产废水
:含铜、镍等高价属阴离子,pH值上下波动大。
设计电镀废水
:产自光刻胶清理工艺,含异丙醇、异丙醇等生产液体,COD万代高达5000mg/L以上的。
氧化还原电位工业废水
:原于物理化学液相累积(CVD)工序,氯离子浓硫酸浓度已经超过800mg/L。
补救工艺设计过程
预办理时期
调低池
:均等化环境质量容量,少的冲击负荷率。
化学上乳浊液
:加药NaOH改善pH至9-10,使血本属确立氢氧化的物沉淀自己,避开率>95%。
血生化清理关键期
生物滤池过酸
:吸附大原子核设计物,上升废气可血生化性。
A/O生产工艺
(活性污泥-好氧组合式):主要采用效率高硝化细菌细菌-反硝化细菌细菌科技,高锰酸盐指数消除率>98%。
深度的工作时候
活性氧炭吸附剂
:进步祛除杂质充分物,加强组织领导COD<50mg/L。
膜滤过
(UF+RO):改变电镀废水工业废水处理,工业废水处理率>70%。
结果英文成果
水流饮用水质满足《污水废气排放条件化废气排放条件》(GB 8978-1996)一层条件。
天价属含铁低过0.5mg/L,COD<50mg/L,化学需氧量<5mg/L。
每一年可以减少焦化废水尾气加工量下跌约30万吨,循环水用在加工线清晰工步,避免浪费投资成本约1十万元/年。